艾锐孚(上海）新材料科技有限公司-华东地区化工原料与特种新材料代理供应商,住友化学蚀刻剂（Etchant）、剥离液（Stripper）、显影液（Developer）材料华东地区经销商，原厂原包，以优越的品质，合理的价格以及完善的售前售后服务得到新老客户的大力支持和好评，公司致力于化工产品和特种新材料产业的前沿技术和销售，联合众多进口化工品牌为客户打造最为舒适的服务。

住友化学 SUMITOMO CHEMICAL ND-100 住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 全系显影液，主要用于半导体晶圆、LCD/OLED 显示面板、柔性电子器件的正性 / 负性光刻胶显影制程，实现微细线路图形高精度成型，适配量产线、精细线路及柔性基板等不同场景需求。

住友化学 SUMITOMO CHEMICAL ND-100 特点应用：

电子级高纯配方，金属离子含量低，显影均匀稳定、分辨率高，对光刻胶适配性强，不腐蚀 ITO 与金属线路，可满足半导体晶圆、显示面板、柔性器件等高精度图形成型与规模化量产需求。

【 住友化学 SUMITOMO CHEMICAL ND-100 采购指南 】
核心优势
正品承诺:住友化学 SUMITOMO授权经销商|原厂原包|假一罚十
资质齐全:可提供COA/MSDS/SGS/UL黄卡及物性参数
财税合规:一对一开具13%增值税专用发票
灵活采购:1KG起订|部分型号支持散货供应
高效物流
合作物流:顺丰/德邦/安能/百世等全网覆盖
发货时效:当天下单当日发|全国直达
支付方式:电汇
运输保障:专业包装+全程物流追踪
质量保障
1到货验收:请当场查验外包装完整性
2异常处理:如遇破损/泄漏，请要求物流人员现场签认并留存证据
3售后响应:24小时内联系客服，专业团队全程跟进温馨提示
价格动态:原料行情实时波动，报价请致电确认
验厂服务:欢迎预约实地考察，见证供应链实力
长期合作:提供定制化采购方案，助力降本增效服务承诺
以品质求生存以信誉谋发展
诚信经营价格优势技术赋能

艾锐孚(上海）新材料科技有限公司供应住友化学住友化学 SUMITOMO CHEMICAL  PD-400  、 蚀刻液、 剥离液、 显影液系列型号；

一、银蚀刻液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL Ag-Etchant 银蚀刻液，适用于 OLED 银电极精密刻蚀，蚀刻均匀残留物低，制程良率高
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TFS 银蚀刻液，用于半导体银电极精细图形化，线宽控制精准，对基底无损伤
二、铜蚀刻液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL Cu-Etchant 铜蚀刻液，适用于 TFT 面板铜布线湿法刻蚀，速率稳定侧蚀小
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL Cu-2000 铜蚀刻液，用于显示面板及半导体铜线路加工，均匀性优异适配量产
三、铝蚀刻液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL Al-Etchant 铝蚀刻液，适用于铝及铝钼合金层刻蚀，线条规整对光刻胶友好
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL Al-3000 铝蚀刻液，用于 LCD 面板栅极源漏极制程，剖面角度可控兼容性强
四、ITO / 透明导电膜蚀刻液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL ITO-Etchant 氧化铟锡蚀刻液，适用于透明导电膜图形化，高选择比不蚀金属
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL ITO-07N 氧化铟锡蚀刻液，用于非晶 ITO/IZO 刻蚀，对底层铜铝低损伤
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL ITO-301 氧化铟锡蚀刻液，用于晶态 ITO 刻蚀，高均匀性适配触控与显示电极
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TE100 氧化锡系蚀刻液，适用于氧化锡类透明导电膜精密湿法加工
五、其他金属蚀刻液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TFM 钼蚀刻液，用于半导体及面板钼层刻蚀，高选择比蚀刻精准
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 8148 金蚀刻液，适用于贵金属金层图形化，TFA 体系无残留无腐蚀
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TFP 钯蚀刻液，用于钯金属薄膜精密刻蚀，适配半导体封装与微纳加工
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TFB 镍蚀刻液，适用于纯镍层刻蚀，速率稳定线条边缘整齐
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TFN 镍铬蚀刻液，用于镍铬合金层图形化，多层膜兼容性良好
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TFT 钛蚀刻液，适用于半导体钛阻挡层刻蚀，低损伤高一致性
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL SIE-8607 钽蚀刻液，用于钽金属膜层刻蚀，适配先进半导体制程
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 1020 铬蚀刻液，适用于铬层掩膜及线路刻蚀，均匀性好无钻蚀
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL W-Etch 钨蚀刻液，用于半导体钨布线刻蚀，超高纯度低金属杂质
六、硅及介质层蚀刻液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL Si-Etch 硅蚀刻液，适用于单晶硅多晶硅湿法刻蚀，表面粗糙度低
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL RSE-100 硅蚀刻液，低速可控硅刻蚀，适用于高精度微结构加工
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL RSE-200 硅蚀刻液，中速硅刻蚀，适配晶体管台面结构制程
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL RSE-101 硅蚀刻液，硝酸氢氟酸体系，适用于精细硅图形刻蚀
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL RSE-414 硅蚀刻液，配比优化低损伤，适用于薄硅层刻蚀
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL RSE-313 硅蚀刻液，多组分复配，兼容多膜层同步刻蚀
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL RSE-511 硅蚀刻液，高选择比体系，适用于硅选择性湿法加工
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL BOE 系列缓冲氧化蚀刻液，适用于氧化硅氮化硅介质层刻蚀，高选择比低颗粒
七、光刻胶剥离液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 酚系剥离液，适用于常规光刻胶剥离，常温高效去除残胶
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 胺系剥离液，适用于厚膜及硬化光刻胶剥离，剥离 无残留
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 半导体高纯度剥离液，适用于先进制程光刻胶去除，低金属污染
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 面板专用剥离液，适用于 LCD/OLED 制程，不伤金属配线与透明电极
八、显影液系列
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL TMAH 显影液，适用于正性光刻胶精密显影，线宽控制精准
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL KOH 显影液，适用于厚膜及负性光刻胶显影，均匀性稳定
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 高分辨率显影液，适用于微细图形显影，还原精度高缺陷少
住友化学 SUMITOMO CHEMICAL 低损伤显影液，适用于柔性 OLED 与精细 TFT 阵列，对基材无腐蚀